電波プロダクトニュース
051010_01
オフリーク電流を従来比10%以下に低減したCMOSトランジスタ 沖電気工業は7日、超低消費電流向けの新しいデバイス構造のSOI(シリコン・オン・インシュレータ)-CMOSトランジスタを開発。従来素子と比べ、駆動時動作速度の低下がないまま待機時の消費電流(オフリーク電流)を10分の1以下に低減することに成功したと発表した。 今回開発した素子は、ノンドープボディー・ノンオーバーラップ型SOIと呼ぶもの。今までのSOIデバイスでは、ボディー電位を固定しないと基板が浮いてしまうため、リーク電流を防ぎ切れなかったが、ノンドープボディー型構造にすることによりリーク電流の低減を実現した。 また、従来はソース・ドレインとゲートのオーバーラップ部分で寄生容量が発生するため、動作速度が低下してしまうという問題があったが、ノンオーバーラップ構造にすることによって寄生容量を低減し、動作時速度性能を向上させた。 さらに、超低オフリーク電流向けに必要な高いしきい値を得るためにメタルゲート電極など、従来のポリシリコンとは材料の異なるゲート電極を用いたプロセス開発が行われているが、プロセスが複雑になりコスト高となる。新素子では、通常のCMOSと逆極性のP+ゲートNMOSとN+ゲートPMOSを採用、従来のプロセスと親和性のあるポリシリコンゲートプロセスを使うことで、低コスト構造を実現している。 |
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