電波プロダクトニュース



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日付 メーカー名 製品分類 分類 用途
8月25日060825_05 日立中央研究所 半導体素子 光半導体 一般産業用

40ギガビット/秒の動作が可能なGaInNA(ガリウム・インジウム・窒素・砒素)半導体レーザー


 日立製作所中央研究所(福永泰所長)は24日、GaInNAs(ガリウム・インジウム・窒素・砒素)半導体レーザーの40ギガビット/秒動作に成功したと発表した。

 ビル内や構内に設置されているルーター(データ転送装置)や伝送装置間を繋ぐIP(インターネット・プロトコル)光通信ネットワーク向け。GaInNAsを活性層に用い、5度Cでの直接変調方式により低消費電力、高速動作する小型光源(光送信モジュール)を可能にしたもの。

 今回、開発した半導体レーザー素子は、同社が95年に提案した新規波長材料GaInNAsに適した「Al(アルミニウム)フリー分子線エピタキシ技術」を確立して新結晶成長技術を開発、これを活性層に用いた。また、“逆メサ型リッジ構造”で従来構造に比べ約2倍の高速化と低消費電力化も実現した。「光通信のキーデバイスとしてITバブル」崩壊後、低迷していた半導体レーザーも最近、復活の動きが見られ、再び活気が出てきた。高速化、低コスト化を実現するための新材料を用いることで新半導体レーザー素子の開発に成功した」(青木雅博・光デバイス研究プロジェクト・リーダー)。

 同社では、さらに結晶質の改善、レーザー構造の最適化をはかり5、6年後の実用化を目指す。

 今回の研究は、独立行政法人情報通信研究機構(NICT)からの委託研究の一環。今月29日からの「第67回応用物理学会」(滋賀県大津市)ほか、関連する国際会議で発表する。

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