電波プロダクトニュース
060210_04
混載DRAMの待機時消費電力を8分の1に低減できる65ナノ世代のDRAM混載システムLSI 東芝は9日、65ナノメートル世代のシステムLSI向けに、混載DRAMの待機時における消費電力を、約8分の1に低減できる新技術の開発を発表した。 DRAM混載のシステムLSIでは、セルの高速化とデータの信頼性確保、低消費電力化の同時実現が高性能化の課題。同社は、今回の新技術をシステムLSI高性能化の一手法として実用化を検討する。 DRAMの消費電力を低減するには、データ保持に必要な一定間隔ごとにデータ更新を行う「リフレッシュ動作」の頻度を減らすことが有効とされている。新技術では、不良セルを置き換える冗長(リダンダンシー)セルとエラー訂正用のECC(エラー・チェッキング&コレクティング)回路の採用でデータの信頼性を高め、従来の8分の1のリフレッシュ頻度でデータ保持を可能にしている。 また、リフレッシュ頻度の低減は、待機時にだけ適用するなど、制御アルゴリズムの最適化により(処理速度を優先)動作時の性能を従来同等に維持する。 今回の成果は、米サンフランシスコでのISSCC(2006国際固体回路素子会議)で発表された。 |
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