040705_02(米)アルテラ

040705_02
　

日付		メーカー名	製品分類	分類	用途
7月5日	040705_02	(米)アルテラ	半導体集積回路	ASIC/ロジック/ゲートアレイ	汎用

FPGA

米半導体メーカーのアルテラは半導体ファウンドリの最大手である台湾ＴＳＭＣからの協力を得て、このほど90ｎｍプロセス技術を採用した低誘電率が特徴のＦＰＧＡ（プログラミング可能なＬＳＩ）製品を開発した。90ｎｍ技術を採用したＦＰＧＡで製品化を実現したのは、アルテラが初めて。

新シリーズ「Ｓｔｒａｔｉｘ�」第1弾として、すでに6月はじめから出荷に入っている「ＥＰ２Ｓ６０」は業界最高レベルの高密度と高速性を発揮する。速度は競合のＦＰＧＡ製品比50％増、ロジック容量は2倍以上。

3年以上にわたり協業を続けているファウンドリパートナー、ＴＳＭＣの90ｎｍプロセス技術「Ｎｅｘｓｙｓ」と、アプライド・マテリアルズ社の低誘電性フィルム「Ｂｌａｃｋ　Ｄｉａｍｏｎｄ」を採用することで、これらの特性を実現している。アルテラの技術部門担当フランソワ・グレゴワール副社長は「ＴＳＭＣが開発した、製造しやすい設計のメソドロジーに徹底して従うことで、基板上の描画（リソグラフィー）やプロセス・マージン、電源管理などでの従来の課題を解決し、高速・高密度で低誘電性のＦＰＧＡ開発に成功した」と協業の成果について説明している。

また同社マーケティング担当のエリック・クレイグ上席副社長は「システムレベルのコンポーネンツとしてＦＰＧＡへの需要は高まりつつある」と、新シリーズ「Ｓｔｒａｔｉｘ�」へのニーズの高さを指摘している。すでに計測機器ベンダー大手独ローデ・シュワルツ社が新シリーズを採用する意向を明らかにしている。アルテラはＥＰ２Ｓ６０に続く5品種についても、今年第４四半期中に出荷を開始する計画。また全機種について、05年初頭をメドに量産体制へ移行する。