040205_02日本シノプシス

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日付		メーカー名	製品分類	分類	用途
2月4日	040205_02	日本シノプシス	半導体集積回路	その他	汎用

位相シフト・マスク技術

　日本シノプシス（東京都品川区大井1―28―1、藤井公雄社長）によると、東芝セミコンダクター社は、高性能プロセッサーや論理回路の生産にシノプシス社の位相シフト・マスク（ＰＳＭ）技術を導入した。

東芝は同技術を用いて、05年上期から65ナノプロセスでの量産を始める。東芝は、02年12月に65ナノプロセス技術「ＣＭＯＳ５」を発表し、04年4月のサンプル出荷を目指している。

同技術は波長193ナノのＡｒＦリソグラフィー装置とＰＳＭ技術により、30ナノ／180ナノピッチを実現する。シノプシス社によると、ＰＳＭ技術は波長248ナノのリソグラフィー装置で、さらに微細な9ナノのトランジスター製造にも使われているという。