電波プロダクトニュース



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8月13日090813_03 インテル/マイクロン・テクノロジー 半導体集積回路 メモリー デジタル情報家電用

34ナノプロセス使用の3bpcNAND型MLCフラッシュメモリー


 米インテルとマイクロン・テクノロジーは11日、34ナノメートルのプロセス技術を使用して3bpc(ビット/セル)のNAND型多値セル(MLC)フラッシュメモリーを共同開発したと発表した。

 今回の3bpcNAND型MLCフラッシュメモリーは両社のフラッシュメモリー合弁製造会社IMフラッシュテクノロジーズ(IMFT)で設計、生産され、容量は32ギガビット、サイズは126平方ミリ。既にマイクロンによってサンプル出荷されているが、量産は今年第4四半期の予定。典型的な用途はフラッシュカード、USBドライブなどの家電用記憶装置。

  初期のフラッシュメモリーは1セル当たり1ビットが普通。このため容量を増やすにはダイのサイズを大きくすることが必要で、歩留まりも低下した。しかし、IMFIでは回路プロセス技術を微細化することで、ダイのサイズを大きくしないでセル当たり3ビットのデータ記録を実現、現行標準の2ビット/セル技術より大幅に記録密度を高め、32ギガビットという大容量を達成した。

  今回の開発についてインテルのNANDソリューショングループ、ランディ・ウィルヘルム副社長は「当社とマイクロンが34ナノメートル技術で3bpcを実現したことは、コストを一段と削減し、NANDフラッシュの容量を増大させる20ナノメートルのプロセス技術実現という半導体メーカーの計画の大きな一歩になる」と語った。

  米サンディスクと東芝も3bpcのフラッシュメモリーを今年下半期に量産出荷の計画である。


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