060407_04PPLジャパン/高知工科大学

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日付		メーカー名	製品分類	分類	用途
4月7日	060407_04	PPLジャパン/高知工科大学	電子材料	電子材料	一般民生用

省エネで環境に強い半導体新素材「シリコン・ガラス基板上に作製した酸化モリブデン」

【名古屋】ＰＰＬジャパン（名古屋市中区、玉置訓央社長）は、高知工科大学工学部の河東田隆教授の研究グループと共同開発した半導体新素材「シリコン基板およびガラス基板で作製ﾅきる酸化モリブデン」のサンプルウエハーを今月から出荷した。

河東田教授の研究グループが、３月の応用物理学会で発表したのが「シリコン・ガラス基板上に作製した酸化モリブデン」という特性、製造方法で画期的な半導体新素材である。

新素材の禁制帯は3.45-eVで、700℃の低温で薄膜を形成できる。酸化モリブデンは、波長が３８８ナノメートル以下と短く、３８０ナノメートル付近の波長の光である紫外線領域を実現する。

主な用途として、消費電力が少ない携帯電話や電気製品、自動車など、耐熱性の高いパワー半導体や紫外線領域の発光ダイオード（ＬＥＤ）に応用できる。

このほど名古屋市の全日空ホテルで開かれた理論説明会で、河東田教授は「今回の新素材は、ワイドギャップ半導体の一つである。省エネで環境に強い。モリブデンは、地球上にイリジウムの１０倍存在し、シリコンより上のミクロンクラスで作れる。日本発の優れた半導体材料になることを期待している」と説明した。

新素材のサンプルウエハーは、ＰＰＬ　ＡＳＥＤＥ（河東田研究所）が製造。