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液浸露光 
半導体製造用感光剤であるフォトレジスト大手のＪＳＲは、半導体露光の次世代技術として注目を集めている「液浸露光」用として、屈折率1.64の液体を新開発し、水（屈折率1.44）を使った液浸露光の限界を超える回路線幅32ナノメートルの解像に世界で初めて成功した。 液浸露光は、露光装置の投影レンズとウエハーの間に高屈折率（1以上）の液体を満たすことで、解像力を高める技術。回路線幅65―45ナノメートル向けでは、ＡｒＦ（フッ化アルゴン）レーザーを光源にし、液体に水を用いる方法が有力になっている。45ナノメートル以降では、Ｆ２（フッ素ダイマー）光源を使った液浸露光や、波長13.5ナノメートルのＥＵＶ（極端紫外光）露光に移行すると考えられていた。今回の成果は、実用化が2013年といわれる回路線幅32ナノメートルの半導体露光をＡｒＦ液浸でカバーすることで、ＡｒＦ露光技術をさらに延命できる可能性を示している。詳細は12月3日、セミコンジャパン期間中にホテルニューオータニ幕張で開催する「ＪＳＲセミナー２００４」で発表する予定だ。 |
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